סיווג אבקת מתכת סיליקון

טוהר אבקת הסיליקון המתכתית הוא אחד הגורמים הקריטיים ביותר הקובעים את התאמתה ליישומים שונים. בדרך כלל זה מסווג לציונים הבאים:

סיליקון כיתה מטלורגית (MG-SI):

טוהר: 98% עד 99%

יישומים: משמשים בעיקר במטלורגיה כחומר סגסוגת באלומיניום, פלדה ומתכות אחרות. הוא משמש גם בייצור סיליקונים וכימיקלים.

סיליקון בכיתה סולארית (SOG-SI):

טוהר: 99.99% עד 99.999% (4N עד 5N)

יישומים: משמשים בתעשייה הפוטו -וולטאית לייצור תאים סולאריים ופאנלים.

סיליקון בכיתה אלקטרונית (EG-SI):

טוהר: 99.9999% ומעלה (6N ומעלה)

יישומים: חיוניים לייצור מוליכים למחצה, מעגלים משולבים ורכיבים אלקטרוניים אחרים בעלי דיוק גבוה.

גודל החלקיקים של אבקת סיליקון מתכתי ממלא תפקיד משמעותי בביצועיו וביישוםו. זה מסווג לקטגוריות הבאות:

אבקת סיליקון גסה:

גודל החלקיקים: 100 מיקרון עד 1 מ"מ

יישומים: משמשים בתהליכים מטלורגיים, כגון ייצור סגסוגת ודהוקסידציה ביצירת פלדה.

אבקת סיליקון עדינה:

גודל החלקיקים: 10 מיקרון עד 100 מיקרון

יישומים: מתאים לסינתזה כימית, חומרים עקשן ויישומים אלקטרוניים מסוימים.

אבקת סיליקון אולטרה -אפין:

גודל החלקיקים: פחות מ -10 מיקרון (טווח ננו -אבקת ננו)

יישומים: משמשים בטכנולוגיות מתקדמות, כגון אנודות סוללות ליתיום-יון, קרמיקה בעלת ביצועים גבוהים וציפויים מיוחדים.

שיטת הייצור יכולה גם להשפיע על המאפיינים והסיווג של אבקת סיליקון מתכתי:

אבקת סיליקון מאובטחת גז:

מיוצר על ידי מרסס סיליקון מותך עם גז בלחץ גבוה. שיטה זו מביאה לחלקיקים כדוריים עם חלוקת גודל אחיד, אידיאלי ליישומים מתקדמים כמו הדפסת תלת מימד ומטלורגיה של אבקה.

אבקת סיליקון טחונה מכנית:

מיוצר על ידי ריסוק וטחינה של מתכת סיליקון לחלקיקים עדינים. שיטה זו היא חסכונית ומשמשת באופן נרחב ליישומים תעשייתיים.

אבקת סיליקון תצהיר אדי כימי (CVD):

מיוצר באמצעות תגובות כימיות בשלב אדים, וכתוצאה מכך אבקת סיליקון אולטרה-טוהרת במיוחד ליישומים אלקטרוניים ופוטו-וולטאיים.

תגיות פופולריות: סיווג אבקת מתכת סיליקון, סיווג סין של יצרני אבקת מתכת סיליקון, ספקים, מפעל